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RPS-AT50
Rps-sonic
RPS-AT50
導入：
超音波スプレーノズルは、ノズルの後ろに液体を導入するための設計を通る軽量の流れです。チタン、ステンレス鋼、フルオロポリマーで作られたノズル材料を使用すると、多くの異なる溶液を霧にすることができます。 Sonaer Ultrasonic Athotizersは、掃除が簡単で、維持され、信頼性が高く、摩耗する動きのある部分がありません。空気圧を使用せずに、さまざまな粘度液体がノズルの中心から汲み上げられ、霧化されます。その後、液滴は、コーティング、燃焼、保湿、ナノチューブの製造、または液体で作られた液滴を必要とする他の用途のいずれかのプロセスで使用されます。 Sonaerの超音波アトマイザーの設計は、防腐剤であるため、液体が超音波状態の振動からプローブに戻るのを防ぎ、先端から外に出て、不規則な液滴が形成されます。より小さく、より均一な液滴サイズは、このタイプの液体原子化の利点です。
プローブの中央には、電気信号を機械的振動に変換するピエゾセラミックがあります。この振動は、プローブの先端を形成するステップによって増幅され、セラミックに向かって反射され、発信波と混ざり合い、立っている波が生成されます。これらの立っている波は、プローブの中心に向かって液体を吸い込むポンピング作用を引き起こします。
Sonaer Atomizer Probeの設計により、液体は連続的にスプレーし、これらの立場からプローブに戻り、「フラッシング」と呼ばれる液体の突然の噴出を作成します。これらのアトマイザーからのスプレーは滑らかで制御可能で、オーバースプレーはほとんどなくなります。スプレーの厚さはナノ - すべてユーザーが調整可能です。厚さは、送達流量またはショット、ノズルの電力レベル、液体特性、および基板が液体にさらされるまでに設定されます。重いコーティングの場合、低周波プローブを使用します。超薄いコーティングには通常、より高い周波数ノズルを使用します。
パラメーター：
| アイテム | パラメーター |
| 頻度 | 50kHz |
| 力 | 10〜100W |
| 流量（ml/min） | 0〜20ml/min |
| スプレー幅 | 2〜200mm |
| ソリューション利用 | 98％以上 |
前進：
物質的な節約、および正確な制御：
コーティングアプリケーションでは、排出されていない低速度スプレーは、滴が跳ね返るのではなく、基板に落ち着く傾向があるため、オーバースプレーの量を大幅に減少させます。これは、大幅な物質的な節約と環境への排出量の削減につながります。
スプレーは、補助的なエアストリームにゆっくりと動くスプレーを同行することにより、制御し、正確に形作ることができます。幅0.070インチから幅1〜2フィートまでのスプレーパターンは、専門化されたものを使用して生成できます
スプレー型装置の種類。
導入：
超音波スプレーノズルは、ノズルの後ろに液体を導入するための設計を通る軽量の流れです。チタン、ステンレス鋼、フルオロポリマーで作られたノズル材料を使用すると、多くの異なる溶液を霧にすることができます。 Sonaer Ultrasonic Athotizersは、掃除が簡単で、維持され、信頼性が高く、摩耗する動きのある部分がありません。空気圧を使用せずに、さまざまな粘度液体がノズルの中心から汲み上げられ、霧化されます。その後、液滴は、コーティング、燃焼、保湿、ナノチューブの製造、または液体で作られた液滴を必要とする他の用途のいずれかのプロセスで使用されます。 Sonaerの超音波アトマイザーの設計は、防腐剤であるため、液体が超音波状態の振動からプローブに戻るのを防ぎ、先端から外に出て、不規則な液滴が形成されます。より小さく、より均一な液滴サイズは、このタイプの液体原子化の利点です。
プローブの中央には、電気信号を機械的振動に変換するピエゾセラミックがあります。この振動は、プローブの先端を形成するステップによって増幅され、セラミックに向かって反射され、発信波と混ざり合い、立っている波が生成されます。これらの立っている波は、プローブの中心に向かって液体を吸い込むポンピング作用を引き起こします。
Sonaer Atomizer Probeの設計により、液体は連続的にスプレーし、これらの立場からプローブに戻り、「フラッシング」と呼ばれる液体の突然の噴出を作成します。これらのアトマイザーからのスプレーは滑らかで制御可能で、オーバースプレーはほとんどなくなります。スプレーの厚さはナノ - すべてユーザーが調整可能です。厚さは、送達流量またはショット、ノズルの電力レベル、液体特性、および基板が液体にさらされるまでに設定されます。重いコーティングの場合、低周波プローブを使用します。超薄いコーティングには通常、より高い周波数ノズルを使用します。
パラメーター：
| アイテム | パラメーター |
| 頻度 | 50kHz |
| 力 | 10〜100W |
| 流量（ml/min） | 0〜20ml/min |
| スプレー幅 | 2〜200mm |
| ソリューション利用 | 98％以上 |
前進：
物質的な節約、および正確な制御：
コーティングアプリケーションでは、排出されていない低速度スプレーは、滴が跳ね返るのではなく、基板に落ち着く傾向があるため、オーバースプレーの量を大幅に減少させます。これは、大幅な物質的な節約と環境への排出量の削減につながります。
スプレーは、補助的なエアストリームにゆっくりと動くスプレーを同行することにより、制御し、正確に形作ることができます。幅0.070インチから幅1〜2フィートまでのスプレーパターンは、専門化されたものを使用して生成できます
スプレー型装置の種類。
